傅绍云
【姓名】 傅绍云
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 反应离子刻蚀,混合气,SF_6,场效应器件,工作气压,气体流量,重复性,实验结果,刻蚀速率,集成器件,输入功率,气体成分,优越性,光刻胶,百分浓度,难熔金属硅化物,固体器件,精细结构,图形,游离基,
【工作单位】 中国科学院半导体研究所
【曾工作单位】 中国科学院半导体研究所;
【所在地域】 北京
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[1]程美乔,傅绍云,李建中.用SF_6-N_2混合气的反应离子刻蚀制作WSi_x微米结构[J]半导体学报.1990,(05)
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