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任尧成
【姓名】
任尧成
【职称】
【研究领域】
无线电电子学;化学;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】
熔盐,石墨舟,电学性质,液相外延,砷化镓材料,电化学研究,生长层,补偿度,外延层,反应管,MOCVD法,迁移率,烘烤时间,调制掺杂,底表面,固相组成,气态源分子束外延,电离杂质浓度,砷化镓,InGaP...
【工作单位】
中国科学院上海冶金研究所
【曾工作单位】
中国科学院上海冶金研究所;
【所在地域】
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共找到8篇
[1]齐鸣,李爱珍,任尧成,陈建新,张永刚,李存才.
气态源分子束外延InGaP/GaAs结构及其在异质结双极晶体管中的应用
[J]功能材料与器件学报.1995,(02)
[2]陈建新,李爱珍,任尧成.
赝配InGaAs/InAlAs调制掺杂异质结构的Shubnikov-de Haas振荡
[J]物理学报.1998,(05)
[3]施惠英,余海生,李连生,任尧成,江玲娣,孙清,邹元爔.
石墨舟液相外延纯度砷化镓材料的电学性质
[J]半导体技术.1979,(03)
[4]彭瑞伍;任尧成;.
钛在溴化物熔盐中的电化学研究
[J]稀有金属.1980,(04)
[5]彭瑞伍,任尧成.
钛在溴化物熔盐中的电化学研究
[J]科学通报.1982,(06)
[6]施惠英,余海生,任尧成,蒋玉兰,孙秋霞,胡建.
LPE GaAs生长条件对外延层补偿度的影响
[J]稀有金属.1985,(01)
[7]陆凤贞,丁永庆,王嘉宽,彭瑞伍,任尧成,涂嘉浩,张锡卿.
高纯三乙基铝和三乙基镓的研究
[J]化学世界.1986,(07)
[8]韦光宇,彭瑞伍,任尧成,丁永庆.
MOCVD法生长Ga_(l-X)In_xAs_(l-y)Sb_y的物化研究
[J]稀有金属.1992,(06)
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齐鸣
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李存才
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1
韦光宇
中国科学院上海冶金研究所
1
丁永庆
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1
彭瑞伍
中国科学院上海冶金研究所
2
施惠英
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2
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施惠英
中国科学院上海冶金研究所
1
邹元爔
中国科学院上海冶金研究所
1
余海生
中国科学院上海冶金研究所
1
李连生
中国科学院上海冶金研究所
1
孙清
中国科学院上海冶金研究所
1
江玲娣
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引用过该学者文献的学者
(学者,学者单位,篇数)
余海生
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1
施惠英
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胡建
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蒋玉兰
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孙秋霞
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