胡素英
【姓名】 胡素英
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 双层减反射膜,平均反射率,GaAs,间隙位,GaAs表面,硅电池,椭圆偏振仪,短路电流增益,双晶衍射,原子,摇摆曲线,NH4OH,光电子谱,代位,反射率分布,双层膜,特性测定,减反射膜,反射率,俄歇电...
【工作单位】 中国科学院上海冶金研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海冶金研究所;
【所在地域】 上海
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/3 1 1 0 4 208
中国期刊全文数据库    共找到3篇
[1]管丽民,胡素英,陆祝平.双层减反射膜的研究[J]太阳能学报.1983,(01)
[2]吴鼎芬,徐梅娣,胡素英,俞志中.GaAs表面处理及其椭圆偏振仪、俄歇电子能谱与X-光电子谱的特性测定[J]固体电子学研究与进展.1986,(01)
[3]朱南昌,陈京一,李润身,许顺生,夏冠群,胡素英.GaAs中Si~+注入的X射线双晶衍射研究[J]半导体学报.1992,(02)
更多