陈志强
【姓名】 陈志强
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 铬膜,等离子刻蚀,等离子体,铬掩膜,反应室,微细图形,子体,冶金研究,挥发性化合物,掩膜版,等离子体发生器,刻蚀工艺,镀膜,激发态原子,氯化碳,高频电场,中国科学院,场作用,气体流,高频电,
【工作单位】 中国科学院上海冶金研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海冶金研究所;
【所在地域】 上海
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[1]杨民杰,张骥华,孙蓉,卢平芳,陈志强.等离子刻蚀铬膜的研究[J]半导体学报.1989,(09)
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