陈酋善
【姓名】 陈酋善
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 超薄有源层,砷化镓IC,分子离子SiF~+注入,离子注入,GaAs,光退火,注入层,分子离子,摇摆曲线,纵向分布,电激活,原子,代位,快速退火,冶金研究,有源层,低能离子注入,间隙位置,双晶衍射,薄层...
【工作单位】 中国科学院上海冶金研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海冶金研究所;
【所在地域】
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[1]关安民,李钧,石华君,夏冠群,沈鸿烈,江炳尧,朱南昌,陈酋善.GaAs低能Si~+及SiF~+离子注入研究[J]微细加工技术.1993,(03)
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