余曰文
【姓名】 余曰文
【职称】
【研究领域】 物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 插层,单晶,碘化合物,铋系,输运性质,插层化合物,多级衍射,大学化,电阻率,面内,中国科技,铜氧化合物,主体层,插入层,氧化物超导体,导电层,Ｘ射线,载流子浓度,高温超导,层间,
【工作单位】 中国科学技术大学
【曾工作单位】 中国科学技术大学;
【所在地域】 合肥
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[1]余曰文,陈祖耀,李明德,高琳,曹烈兆.铋系2212单晶插碘化合物的合成和输运性质研究[J]低温物理学报.1999,(06)
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