姚东升
【姓名】 姚东升
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;工业通用技术及设备;无机化工;
【研究方向】
【发表文献关键词】 电子温度,等离子体密度,等离子体鞘层,等离子体化学气相沉积,热导率,金刚石膜,CVD金刚石,离子能量和通量,界面,粘附力,等离子体参数,金刚石,飞秒脉冲激光,类金刚石膜,PCVD,鞘层,金属化,多层膜...
【工作单位】 中国科学技术大学
【曾工作单位】 中国科学技术大学;
【所在地域】 合肥
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[1]姚东升,刘晶儒,俞昌旋,王丽戈,詹如娟.粒子流特性对脉冲激光烧蚀淀积类金刚石薄膜的影响[J]中国科学(A辑).2000,(05)
[2]詹如娟，江习承，姚东升，温晓辉，丁卫星.金刚石膜合成条件下的鞘层与等离子体参数分布[J]核聚变与等离子体物理.1996,(03)
[3]朱晓东,陈继峰,詹如娟,姚东升,温晓辉,王桦.CVD金刚石表面金属化Cr/Cu/Ni/Au的研究[J]真空科学与技术.1997,(02)
[4]姚东升,温晓辉,詹如娟,朱晓东.PCVD方法合成A1N基金刚石薄膜热沉[J]真空科学与技术.1997,(02)
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