王冠中
【姓名】 王冠中
【职称】 讲师;
【研究领域】 物理学;工业通用技术及设备;化学;
【研究方向】 薄膜材料制备及特性研究
【发表文献关键词】 计算机编程,CVD金刚石,热丝,光发射谱,膜生长,含氮基团,金刚石生长,金刚石,金刚石薄膜,热丝CVD,热丝化学气相沉积,编程控制,有机分子,中国科学技术大学,灯丝电源,薄膜生长,优化,光谱,气浓度,...
【工作单位】 中国科学技术大学
【曾工作单位】 中国科学技术大学;
【所在地域】 安徽合肥
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中国期刊全文数据库    共找到23篇
[1]张文龙;楼立人;祝巍;王冠中;.表面氧化钛涂层增强金刚石中浅层NV色心的荧光强度（英文）[J]Chinese Journal of Chemical Physics.2019,(05)
[2]刘皓;郭立;易波;王冠中;.基于3D骨架和MCRF模型的行为识别[J]中国科学技术大学学报.2014,(04)
[3]洪勋;王冠中;祝巍;沈小双;.一步法电沉积钯铜二元金属纳米管(英文)[J]中国科学技术大学学报.2010,(09)
[4]戚学贵,陈则韶,常超,王冠中,廖源.HFCVD金刚石膜过程的气氛模拟与分析[J]无机材料学报.2003,(01)
[5]于琳,韩新海,王冠中,揭建胜,廖源,余庆选,方容川.脉冲激光淀积MgF_2薄膜的制备及性质研究[J]量子电子学报.2004,(01)
[6]戚学贵,陈则韶,王冠中,廖源.C-H-O和C-H-N体系生长金刚石膜的气相化学模拟[J]无机材料学报.2004,(02)
[7]陈伊鸣,王冠中,韩新海,李大鹏,谢兴,王清涛.纳米晶粒团聚GaN纳米线A_1(LO)Raman峰的非对称展宽[J]化学物理学报.2005,(04)
[8]刘卫平,余庆选,田宇全,廖源,王冠中,方容川.硼掺杂对金刚石薄膜生长特性的影响[J]无机材料学报.2005,(05)
[9]廖源,尚乃贵,李灿华,王冠中,马玉蓉,方容川.原位光发射谱研究横向偏压金刚石薄膜生长过程[J]无机材料学报.2000,(06)
[10]李灿华,廖源,常超,王冠中,方容川.氮气氛下(100)织构金刚石薄膜的成核与生长研究[J]物理学报.2000,(09)
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中国重要会议全文数据库    共找到1篇
[1]邵智斌;揭建胜;祝巍;王冠中;.一步法可控制备表面凹陷的钯纳米多面体及电催化性能研究[A].中国化学会第29届学术年会摘要集——第34分会：纳米催化.2014-08-04
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承担国家科研项目    共找到4个
[1]王冠中;.石墨单层、双层和多层膜的制备及性能研究[A].中国科学技术大学;.项目经费 32万元.2007-03-31.资助文献数 0 篇
[2]王冠中;.准一维半导体异质结和超晶格物性研究[A].中国科学技术大学;.项目经费 35万元.2005-03-31.资助文献数 0 篇
[3]王冠中;.低电压高迁移率有机半导体薄膜器件制备和性能研究[A].中国科学技术大学;.项目经费 26万元.2003-03-31.资助文献数 2 篇
[4]王冠中;.特种功能薄膜CVD制备过程热物理研究和新工艺探索[A].中国科学技术大学;.项目经费 14万元.1999-03-31.资助文献数 3 篇
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