张大伟
【姓名】 张大伟
【职称】
【研究领域】 物理学;工业通用技术及设备;无线电电子学;
【研究方向】 离子束技术在高功率激光薄膜中的应用研究
【发表文献关键词】 离子清洗,光薄膜,离子束,激光损伤,辅助技术,氧化铪,高功率,离子束清洗,微缺陷,表面性质,激光技术,显微缺陷,离子源,辅助沉积,阈值,激光损伤阈值,离子束流密度,粗糙度,离子处理,氧等离子体,抗激光...
【工作单位】 中国科学院上海光学精密机械研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海光学精密机械研究所;
【所在地域】 上海
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[1]麻健勇;许程;刘世杰;张大伟;晋云霞;范正修;邵建达;.Surface plasmon resonance transmission filters at 1053 nm based on metallic grating with narrow slit[J]Chinese Physics B.2009,(03)
[2]张东平,邵建达,齐红基,张大伟,范正修.Pinhole defects in MPCVD diamond films[J]Chinese Optics Letters.2004,(02)
[3]张大伟,张东平,范树海,王英剑,邵建达,范正修.离子束辅助技术在高功率激光薄膜中的应用[J]激光与光电子学进展.2004,(10)
[4]张大伟,张东平,范树海,邵建达,王英剑,范正修.定向离子清洗对基片表面性质的影响[J]中国激光.2004,(12)
[5]尚淑珍,易葵,侯海虹,张大伟,邵建达,范正修.高反射率193nm Al_2O_3/MgF_2反射膜的实验研究[J]中国激光.2005,(05)
[6]黄建兵,张大伟,张东平,王英剑,邵建达,范正修.反射式相位延迟器的性能研究[J]中国激光.2005,(06)
[7]张东平,张大伟,范树海,赵元安,邵建达,范正修.氧等离子体处理对氧化锆薄膜性质的影响[J]光学技术.2005,(02)
[8]张大伟,张东平,邵建达,王英剑,范正修,范瑞瑛.离子束清洗在激光薄膜中的应用[J]光学技术.2005,(02)
[9]张东平,张大伟,范树海,黄建兵,赵元安,邵建达,范正修.应用离子后处理技术提高薄膜激光损伤阈值[J]强激光与粒子束.2005,(02)
[10]高卫东,张伟丽,范树海,张大伟,邵建达,范正修.HfO_2薄膜的结构对抗激光损伤阈值的影响[J]光子学报.2005,(02)
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[1]张大伟;.研究生思想道德素质调查及引导[A].发展篇——上海科技系统思想政治工作和人才管理研究会论文选编第十辑.2004-06-30
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