王顺权
【姓名】 王顺权
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;物理学;
【研究方向】 反应离子刻蚀法
【发表文献关键词】 熔融石英,光栅,感应耦合等离子体,深刻蚀,聚合物,高密度,刻蚀深度,感应耦合,优化条件,衍射效率,等离子体技术,开口比,光刻胶,高质量,凹凸,等离子体刻蚀,射频功率源,技术制作,刻蚀技术,高深宽比,刻...
【工作单位】 中国科学院上海光学精密机械研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海光学精密机械研究所;
【所在地域】 上海
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[1]王顺权;周常河;茹华一;张妍妍;.深刻蚀高密度熔融石英光栅[J]中国激光.2006,(02)
[2]王顺权,周常河,茹华一,张妍妍.感应耦合等离子体技术用于熔融石英表面凹凸光栅的刻蚀[J]激光与光电子学进展.2004,(11)
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