刘静贤
【姓名】 刘静贤
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 钼栅极,电子发射,离子束辅助沉积,抑制栅,离子束辅助,沉积碳,钼栅,离子束,上海微系统与信息技术研究所,辅助沉积,中国科学院,重点实验室,子学,管镀,物质B,局部谱,电子发射性能,蒸发沉积,项目基金,...
【工作单位】 中国科学院电子学研究所
【曾工作单位】 中国科学院电子学研究所;
【所在地域】 北京
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[1]柳襄怀,任琮欣,江炳尧,朱宏,刘炎源,刘静贤.离子束辅助沉积碳膜抑制栅电子发射研究[J]电子学报.2002,(05)
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