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【姓名】	麻茂生
【职称】
【研究领域】	化学;无机化工;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】	界面,碱金属,光电子能谱,电子结构,铁镍合金,钝化作用,GaAs,界面电子结构,芯能级,能带偏离,功函数,暴露量,蒸镀,底表面,金属夹层,InSb,合金阳极,钝化膜,耐蚀性,信号强度,XPS研究,置换...
【工作单位】	中国科学技术大学
【曾工作单位】	中国科学技术大学;
【所在地域】	合肥

中国期刊全文数据库 共找到9篇

[1]杨靖鑫;吴申立;丁小聪;董兆文;麻茂生;.LTCC滤波器侧面印刷工艺技术研究[J]电子与封装.2020,(08)

[2]徐彭寿,徐世红,刘先明,朱警生,麻茂生,张裕恒,许振嘉.碱金属Cs和Na与GaAs(100)界面相互作用的光电子能谱研究[J]真空科学与技术.1994,(03)

[3]徐彭寿,徐世红,刘先明,朱警生,麻茂生,张裕恒,许振嘉.碱金属Cs和InP(100)界面电子结构的研究[J]真空科学与技术.1994,(03)

[4]吴建新，麻茂生，刘先明，朱警生，季明荣.光电子能谱研究O_2和Rb在InSb（111）表面上共吸附[J]化学物理学报.1995,(06)

[5]陆尔东,徐彭寿,季明荣,麻茂生,刘先明.多晶Fe_(60)Ni_(40)合金阳极钝化膜的XPS研究[J]物理化学学报.1995,(11)

[6]徐彭寿,徐世红,潘海滨,陆尔东,朱警生,刘先明,麻茂生.金属夹层对Ge/GaAs(100)能带偏离影响的研究[J]真空科学与技术.1996,(02)

[7]杨宏伟,麻茂生,刘先明,季明荣,朱警生,吴建新.光电子能谱研究Ce表面的氧化[J]化学物理学报.1997,(03)

[8]方文秀,陈嵘嵘,庄叔贤,麻茂生,季明荣.氯在Cu(100)面上的吸附及其对氧共吸附的影响的电子能谱研究[J]中国科学技术大学学报.1993,(03)

[9]徐世红,刘先明,朱警生,麻茂生,张裕恒,徐彭寿,许振嘉.Ar~+离子注入对Ge/GaAs(100)异质结能带偏离影响的XPS研究[J]中国科学技术大学学报.1993,(04)

中国重要会议全文数据库 共找到1篇

[1]吴建新;麻茂生;季明荣;朱警生;刘先明;杨宏伟;.应用光电子能谱研究氧和碱金属在半导体表面上吸附研究[A].中国分析测试协会科学技术奖发展回顾.2015-07-01

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