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游本章
【姓名】
游本章
【职称】
【研究领域】
无线电电子学;工业通用技术及设备;电力工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】
离子束技术,曝光机,离子束,扫描电子束曝光,发展概况,研究室,半导体集成电路,氮化硅,曝光技术,高分辨率,投影曝光,超大规模集成电路,关键性技术,电子束,腐蚀速度,静电,光学曝光,抗蚀剂,光刻技术,硝...
【工作单位】
中国科学院电工研究所
【曾工作单位】
中国科学院电工研究所;
【所在地域】
北京
学术成果产出统计表
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学术成果产出明细表
中国期刊全文数据库
共找到9篇
[1]游本章.
国外电子束1:1投影曝光技术发展概况和最近进展
[J]电工电能新技术.1984,(03)
[2]游本章.
用离子束曝光方法产生SiO_2图形
[J]微细加工技术.1985,(03)
[3]游本章.
离子束投影曝光技术
[J]电工电能新技术.1985,(02)
[4]游本章.
用离子束曝光方法产生氮化硅图形
[J]电工电能新技术.1985,(04)
[5]游本章.
自显影抗蚀剂的离子束曝光技术
[J]微细加工技术.1986,(01)
[6]黄经筒,吴振华,张祥龄,游本章,杨铁三,方国成,柏仲茹,齐克修.
电子束投影复印曝光机
[J]微细加工技术.1986,(03)
[7]游本章,黄经筒,齐克修,杨铁三.
用于离子镀膜的高压单脉冲引弧技术
[J]电工电能新技术.1987,(04)
[8]游本章.
离子镀膜技术的发展和应用
[J]电工电能新技术.1989,(04)
[9]吴振华,黄经筒,游本章.
用于真空电弧离子镀膜的受控电弧蒸发源
[J]真空.1992,(02)
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中国重要会议全文数据库
共找到1篇
[1]吴振华;黄经筒;游本章;.
用于真空电弧离子镀膜的受控电弧蒸发源
[A].中国电工技术学会电子束离子束专业委员会第四届电子束离子束学术年会暨中国电子学会焊接专业委员会第二届电子束焊接学术年会论文集.1991-06-01
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研究方向相近的学者
(学者,学者单位)
冯嘉尤
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章祝春
清华大学
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柏仲茹
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方国成
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合作过的学者
(学者,学者单位,篇数)
齐克修
中国科学院电工研究所
2
吴振华
中国科学院电工研究所
2
方国成
中国科学院电工研究所
1
柏仲茹
中国科学院电工研究所
1
杨铁三
中国科学院电工研究所
2
黄经筒
中国科学院电工研究所
3
张祥龄
中国科学院电工研究所
1
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该学者文献引用过的学者
(学者,学者单位,篇数)
吴振华
中国科学院电工研究所
2
任侠
中国科学院电工研究所
1
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引用过该学者文献的学者
(学者,学者单位,篇数)
吴振华
中国科学院电工研究所
1
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