秦俊岭
【姓名】 秦俊岭
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】 软X射线多层膜
【发表文献关键词】 余弦模型,梯度折射率,多层膜模型,软X射线反射率,Mo/Si,MoSi2,溅射能量,薄膜表面,薄膜微结构,原子能,钼硅化合物,表面形貌,表面粗糙度,膜层,多层膜,过渡层,衍射峰,结晶程度,周期性,非晶...
【工作单位】 中国科学院上海光学精密机械研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海光学精密机械研究所;
【所在地域】 北京中国
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[1]秦俊岭;易葵;邵建达;.Mo原子溅射能量对Mo/Si薄膜微结构的影响[J]功能材料与器件学报.2006,(02)
[2]秦俊岭;易葵;邵建达;范正修;.周期性梯度折射率多层膜的软X射线反射率[J]光子学报.2006,(08)
[3]秦俊岭;邵建达;易葵;范正修;.Interface roughness, surface roughness and soft X-ray reflectivity of Mo/Si multilayers with different layer number[J]Chinese Optics Letters.2007,(05)
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