刘惠勇
【姓名】 刘惠勇
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 可擦写CD系统,CD_E系统,Ag_5In_5Te_(47)Sb_(33)相变薄膜,相变薄膜,光学性质,热致相变,静态性能,静态记录,磁控溅射,短波长,反射率对比度,磁控,反射率,光谱性质,溅射法,晶...
【工作单位】 中国科学院上海光学精密机械研究所
【曾工作单位】 中国科学院上海光学精密机械研究所;
【所在地域】 上海
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[1]刘惠勇,姜复松,门丽秋,范正修,干福熹.磁控溅射法制备的高反Ag_5In_5Te_(47)Sb_(33)相变薄膜的光谱性质及短波长静态记录性能[J]光学学报.1998,(05)
[2]刘惠勇,姜复松,门丽秋,范正修,干福熹.高反射率Ag_5In_5Te_(47)Sb_(33)相变薄膜热致晶化的微观结构和光学性质的变化[J]科学通报.1998,(16)
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