揭建胜
【姓名】 揭建胜
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 脉冲激光淀积,MgF2薄膜,计算机编程,CVD金刚石,膜生长,薄膜光学,透过率,金刚石,中国科学技术大学,金刚石生长,编程控制,灯丝电源,光谱,膜的制备,硅碳氮,CVD系统,物理系,时间分辨光谱,空间...
【工作单位】 中国科学技术大学
【曾工作单位】 中国科学技术大学;
【所在地域】 合肥
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[1]于琳,韩新海,王冠中,揭建胜,廖源,余庆选,方容川.脉冲激光淀积MgF_2薄膜的制备及性质研究[J]量子电子学报.2004,(01)
[2]方容川,常超,廖源,叶祉渊,薛剑耿,王冠中,马玉蓉,尚乃贵,牛晓滨,王代冕,吴气虹,揭建胜.计算机编程控制CVD金刚石膜生长系统的研制与应用[J]材料导报.2001,(01)
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