胡新宁
【姓名】 胡新宁
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】 微细加工方面的研究
【发表文献关键词】 离子束刻蚀,二次效应,入射,离子束,侧壁,陡度,入射角,再沉积,溅射,角对,图形,图形质量,角条,深宽比,入射角度,溅射原子,图形轮廓,光刻胶,槽底,通量,
【工作单位】 中国科学技术大学
【曾工作单位】 中国科学技术大学;
【所在地域】 合肥
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[1]胡新宁,刘刚,田扬超.离子束刻蚀入射角对图形侧壁陡度影响的研究[J]微细加工技术.2003,(04)
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