陈继峰
【姓名】 陈继峰
【职称】
【研究领域】 物理学;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 CVD金刚石,界面,金属化,多层膜,Cr/Cu,表面金属化,中国科技大学,附着强度,近代物理,分析中心,结构成分,衍射峰,吸热效应,化学反应,电子器件,新相,蒸镀,金属化工艺,金刚石表面,金属界面,
【工作单位】 中国科学技术大学
【曾工作单位】 中国科学技术大学;
【所在地域】 合肥
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[1]朱晓东,陈继峰,詹如娟,姚东升,温晓辉,王桦.CVD金刚石表面金属化Cr/Cu/Ni/Au的研究[J]真空科学与技术.1997,(02)
[2]詹如娟;朱小东;汪学毅;陈继峰;.金刚石薄膜与Si衬底间界面状态的研究[J]科学通报.1993,(22)
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