尤大纬
【姓名】 尤大纬
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;金属学及金属工艺;工业通用技术及设备;
【研究方向】
【发表文献关键词】 离子源,离子光学系统,考夫曼离子源,大束流密度,离子束溅射,离子束流,聚焦束,溅射沉积,离子束,变孔径,薄膜工艺,离子束工艺,多极场设计,线状离子源,发散角,焦距,溅射镀膜,放电室,靶材,加速电压,束...
【工作单位】 中国科学院空间科学与应用研究中心
【曾工作单位】 中国科学院空间科学与应用研究中心;
【所在地域】 北京
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[1]林永昌,尤大纬,李晓谦,沈立新,郑陪雨.等离子辅助成膜技术[J]仪器仪表学报.2000,(05)
[2]朱仁璋;林华宝;李春华;马兴瑞;濮祖荫;邹积清;陈仲生;尤大纬;徐荣栏;.论绳系小卫星的应用与技术可行性[J]航天器工程.2001,(03)
[3]林永昌,尤大纬,李晓谦,沈立新,郑陪雨.等离子辅助成膜技术[J]光学仪器.1999,(Z1)
[4]尤大纬,李文治.离子束增强沉积技术新进展[J]真空科学与技术.1994,(04)
[5]王宇,尤大纬,夏磊.离子束增强沉积制备碳化硼及C-B-Ti化合物薄膜的结构与力学性能的研究[J]真空科学与技术.1995,(02)
[6]尤大纬，冯毓材，王宇.用于材料改性的宽束离子源现状及其发展[J]微细加工技术.1996,(01)
[7]尤大纬,田丰.SSD-1型双束离子束镀膜装置[J]真空科学与技术.1988,(04)
[8]尤大纬.有关离子束镀膜的几个问题[J]微细加工技术.1989,(01)
[9]尤大纬.离子束镀膜聚焦栅[J]电工电能新技术.1989,(02)
[10]尤大纬.薄膜加工用考夫曼离子源的几个问题[J]微细加工技术.1992,(02)
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