喻如英
【姓名】 喻如英
【职称】
【研究领域】 无机化工;无线电电子学;计算机硬件技术;
【研究方向】
【发表文献关键词】 化学镀锡,直接电镀,印制板,沉积速率,铅合金,化学镀铜,金属化孔,孔壁,微蚀,镀锡铅,导电性,铜环,可焊性,导电层,氟硼酸,百分含量,合金,化学镀,DP方法,锡铅,预焊剂,镀层厚度,内层,毫克分子,电...
【工作单位】 中国科学院计算技术研究所
【曾工作单位】 中国科学院计算技术研究所;
【所在地域】
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[1]喻如英.化学镀锡铅合金[J]印制电路信息.1994,(02)
[2]喻如英.印制板金属化孔的直接电镀技术[J]印制电路信息.1994,(11)
[3]喻如英;章云凤;.干膜光致抗蚀剂在印制电路板生产中的应用[J]电子计算机动态.1981,(11)
[4]喻如英;.自动电位滴定分析光亮酸性镀铜溶液[J]表面技术.1991,(04)
[5]喻如英;王素琴;唐济才;.低应力高速镀镍[J]表面技术.1992,(01)
[6]唐济才;王素琴;喻如英;.高速光亮镀金[J]表面技术.1992,(04)
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