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赵良仲
【姓名】
赵良仲
【职称】
【研究领域】
化学;无机化工;材料科学;
【研究方向】
【发表文献关键词】
荷电效应,低能离子散射谱,X射线光电子能谱(XPS),K-Pb-Tl-O,中和作用,磁透镜,低能离子散射,成像X射线光电子能谱,电子结构,复合氧化物,X射线光电子能谱,谱分析,PCL/PVC,峰形畸变...
【工作单位】
中国科学院化学研究所
【曾工作单位】
中国科学院化学研究所;
【所在地域】
北京
学术成果产出统计表
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/文献篇数
核心期刊论文数
基金论文数
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文献数(该学者统计年度当年发文总文献数)
被引频次(该学者统计年度当年发文总被引频次)
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下载频次(该学者统计年度当年发文总下载频次)
学术成果产出明细表
中国期刊全文数据库
共找到80篇
[1]王海;刘芬;阚莹;宋小平;赵良仲;邱丽美;.
硅片表面超薄氧化硅层厚度测量关键比对CCQM-K32
[J]计量学报.2013,(06)
[2]赵良仲;胡玉秀;.
固态化学试剂变质的XPS检测
[J]理化检验.化学分册.1990,(02)
[3]刘世宏;赵良仲;王当憨;.
混合褪色剂对固定皮肤褪色作用的机理研究
[J]分子科学学报.1983,(03)
[4]赵志娟;刘芬;赵良仲;.
BiI_3-nylon11纳米复合材料的XPS及ATR-IR分析
[J]分析测试技术与仪器.2011,(01)
[5]刘芬;赵志娟;邱丽美;赵良仲;.
XPS光电子峰和俄歇电子峰峰位表
[J]分析测试技术与仪器.2009,(01)
[6]赵志娟;刘芬;王海;赵良仲;闫寿科;宋小平;.
硅片上超薄氧化硅层厚度测量的XPS标准曲线法
[J]光谱学与光谱分析.2010,(06)
[7]赵志娟;刘芬;赵良仲;.
硅晶片上超薄氧化硅层厚度纳米尺寸效应的XPS研究
[J]物理化学学报.2010,(11)
[8]刘芬;邱丽美;赵良仲;王海;阚莹;宋小平;.
用XPS法精确测量硅片上超薄氧化硅的厚度
[J]化学通报.2006,(05)
[9]刘洁;刘芬;赵良仲;.
创新设计的K-Alpha电子能谱仪
[J]现代仪器.2007,(01)
[10]邱丽美;刘芬;赵良仲;.
样品表面污染对X射线光电子能谱定量分析的影响
[J]理化检验(化学分册).2007,(03)
更多
中国重要会议全文数据库
共找到3篇
[1]赵良仲;刘芬;张琳;.
用XPS法分析稀土复杂氧化物的电子结构
[A].中国分析测试协会科学技术奖发展回顾.2015-07-01
[2]刘芬;邱丽美;赵良仲;.
成像X射线光电子能谱的应用及技术研究
[A].中国分析测试协会科学技术奖发展回顾.2015-07-01
[3]刘芬;邱丽美;赵良仲;.
用XPS法精确测量硅片上超薄氧化硅的厚度
[A].2005年全国粉体设备—技术—产品信息交流会暨纳米颗粒测试与标准培训班论文集.2005-09-01
更多
研究方向相近的学者
(学者,学者单位)
刘芬
中国科学院化学研究所
邱丽美
中国科学院化学研究所
更多
合作过的学者
(学者,学者单位,篇数)
刘洁
北京师范大学
1
刘芬
中国科学院化学研究所
13
邱丽美
中国科学院化学研究所
9
赵志娟
中国科学院化学研究所
1
姜勇
中国科学院化学研究所
1
刘世宏
中国科学院化学研究所
12
徐洪雨
中国科学院化学研究所
2
李宏成
中国科学院物理研究所
2
王瑞兰
中国科学院物理研究所
2
张金彪
中国科学院化学研究所
8
徐翠英
中国科学院化学研究所
6
张琳
中国科学院化学研究所
1
更多
该学者文献引用过的学者
(学者,学者单位,篇数)
胡玉秀
中国科学院化学研究所
1
潘承璜
中国科学院化学研究所
1
刘世宏
中国科学院化学研究所
1
刘芬
中国科学院化学研究所
1
罗棨光
中国科学院物理研究所
1
王荣耀
清华大学
1
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引用过该学者文献的学者
(学者,学者单位,篇数)
姚康德
天津大学
3
朱道本
中国科学院化学研究所
1
苏锵
中国科学院长春应用化学研...
3
吴正龙
北京师范大学
1
袁星
东北师范大学
3
曹学强
湖南师范大学
3
白庆余
吉林农业大学
3
张敏
南开大学
3
袁缨
沈阳农业大学
3
侯信
天津大学
3
郭鹏
信阳师范学院
1
杨剑鹏
信阳师范学院
1
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