李希云
【姓名】 李希云
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 石英管,高纯水,含钠量,二氧化硅薄膜,硅表面,毫微克,浓缩柱,热氧化工艺,离子色谱,离子色,检测系统,原子吸收分光光度法,痕量阴离子,钠的测定,氧化层,特种气体,热生长,钠含量,杂质,管道,外表面,杂...
【工作单位】 中国科学院半导体研究所
【曾工作单位】 中国科学院半导体研究所;
【所在地域】
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[1]严杜,李安模,崔仙航,徐学敏,李希云,严性天,罗国忠.高纯水、硅及硅表面二氧化硅薄膜中痕量钠的原子吸收分光光度法测定[J]半导体技术.1980,(03)
[2]徐学敏,李希云,崔仙航.采用双层石英管道减少工艺中的沾污[J]半导体技术.1983,(04)
[3]徐学敏;李希云;崔仙航;.无火焰原子吸收光谱测定痕量硅[J]光谱学与光谱分析.1984,(04)
[4]闻瑞梅,李希云.离子色谱法测定高纯水及高纯硅烷中超痕量阴离子[J]分析试验室.1987,(12)
[5]闻瑞梅,李希云,付仲华,刘秀庆.先进的离子色谱半导体检测系统[J]电子学报.1988,(05)
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