顾柏春
【姓名】 顾柏春
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 X射线光刻,光刻胶,俄歇电子,超大规模集成电路,光电子,X射线掩模,等离子刻蚀,光刻技术,纵宽比,X射线,掩膜,刻蚀速率,204胶,顶层胶,光刻工艺,平行板,中间层,X射线光刻胶,物理问题,米线,图形...
【工作单位】 中国科学院半导体研究所
【曾工作单位】 中国科学院半导体研究所;
【所在地域】
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[1]顾柏春;邓弼兴;张世华;.远紫外曝光[J]微电子学与计算机.1981,(04)
[2]顾柏春.X射线光刻与超大规模集成电路[J]物理.1984,(01)
[3]顾柏春,王玉玲,邓弼兴,张世华.X射线光刻用的三层光刻胶[J]微细加工技术.1984,(01)
[4]顾柏春.集成电路中的物理问题讲座——第九讲 光电子与俄歇电子在X射线光刻中的影响[J]物理.1985,(11)
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