赵华珍
【姓名】 赵华珍
【职称】 工程师;
【研究领域】 物理学;无线电电子学;材料科学;
【研究方向】 激光技术专业
【发表文献关键词】 Si_3N_4粉末,激光合成,饱和吸收,吸收系数,荧光不稳定,SF_6,离子注入,小信号,纳米Si3N4,光谱法,气压,量子限制效应,饱和参量,共振峰,纳米,非晶态,饱和功率,光学厚度,精密机械,安徽...
【工作单位】 中国科学院安徽光学精密机械研究所
【曾工作单位】 中国科学院安徽光学精密机械研究所;
【所在地域】 合肥
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[1]涂鲜花,李道火,赵华珍,詹明生.离子注入对纳米Si_3N_4结构的影响[J]无机材料学报.2001,(02)
[2]于宜君,仲志英,张明月,李建国,赵华珍,李道火.饱和吸收光谱法测量SF_6小信号吸收系数[J]量子电子学.1985,(03)
[3]李道火,赵秉纯,赵华珍,仲志英,李建国,宋瑞舟,宁海平,费渊.激光合成非晶态Si_3N_4粉末[J]中国激光.1986,(09)
[4]李道火;仲志英;刘宗才;赵秉纯;李建国;浦坦;赵华珍;刘昌好;詹合英;花春贵;.激光合成非晶态Si_3N_4粉末[J]激光技术.1991,(04)
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