刘士杰
【姓名】 刘士杰
【职称】
【研究领域】 物理学;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 沟道效应,表面组分,外延层,缺陷分析,辐射损伤,异质,沟道,背散射,氮化硅,晶轴,光阑,热退火,背散射谱,随机谱,组分比,工艺制备,外延硅,束流,研究院,LPCVD,
【工作单位】 中国科学院高能物理研究所
【曾工作单位】 中国科学院高能物理研究所;
【所在地域】 北京
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[1]王豫生,阎建华,郑胜男,殷士端,张敬平,顾诠,代爱平,谢葆珍,刘士杰.沟道效应及某些应用的研究[J]核技术.1987,(06)
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[1]王豫生;阎建华;郑胜男;殷士端;张敬平;顾诠;代爱平;谢宝珍;刘士杰;.沟道背散射技术在半导体材料分析中的应用[A].第五次核物理会议资料汇编（上册）.1982-11-01
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