尤四方
【姓名】 尤四方
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 电子束光刻,邻近效应,Monte Carlo,抗蚀剂显影,沉积能量,高斯分布,入射电子束,能量密度阈值,背散射电子,衬底材料,电子束能量,实验结果,电子能量,模拟结果,分辨率,前散射,剖面图,电子激发...
【工作单位】 中国科学技术大学
【曾工作单位】 中国科学技术大学;
【所在地域】 合肥
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[1]孙霞;尤四方;肖沛;丁泽军;.电子束光刻的邻近效应及其模拟[J]物理学报.2006,(01)
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