叶祉渊
【姓名】 叶祉渊
【职称】
【研究领域】 工业通用技术及设备;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 多晶铜,金刚石膜,计算机编程,CVD金刚石,膜生长,脱氧铜,金刚石,磷脱氧铜,金刚石薄膜,金刚石生长,编程控制,中国科学技术大学,成核密度,灯丝电源,光谱,硅碳氮,CVD系统,物理系,时间分辨光谱,空...
【工作单位】 中国科学技术大学
【曾工作单位】 中国科学技术大学;
【所在地域】 合肥
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[1]方容川,常超,廖源,叶祉渊,薛剑耿,王冠中,马玉蓉,尚乃贵,牛晓滨,王代冕,吴气虹,揭建胜.计算机编程控制CVD金刚石膜生长系统的研制与应用[J]材料导报.2001,(01)
[2]韩祀瑾,陈金松,方容川,尚乃贵,邵庆益,乐德芬,廖源,叶祉渊,易波,崔景彪.金刚石薄膜在多晶铜和磷脱氧铜基片上的生长[J]物理学报.1998,(04)
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