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姚然
【姓名】
姚然
【职称】
【研究领域】
物理学;工业通用技术及设备;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】
低压MOCVD,异质外延,SiC薄膜,SiC/Si,MOCVD,ZnO/p-Si,异质结,缺陷,深能级中心,结构特性,O薄膜,载气流量,光致发光,发光线,复合中心,隙态密度,硅基片,氧化锌薄膜,过渡层...
【工作单位】
中国科学技术大学
【曾工作单位】
中国科学技术大学;
【所在地域】
合肥
学术成果产出统计表
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核心期刊论文数
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学术成果产出明细表
中国期刊全文数据库
共找到9篇
[1]宋伟;王建华;姚然;李岳峰;.
层板冷却结构典型参数对流动换热特性分析
[J]航空动力学报.2024,(12)
[2]刘新宇;王建华;浦健;姚然;.
双层壁涡轮叶片短径扇形气膜孔冷却性能数值研究
[J]风机技术.2024,(03)
[3]姚然;朱俊杰;钟声;朱拉拉;傅竹西;.
RF预处理对ZnO/Si生长的影响
[J]人工晶体学报.2006,(01)
[4]姚然;朱俊杰;段理;朱拉拉;傅竹西;.
直流溅射缓冲层生长ZnO/Si薄膜
[J]人工晶体学报.2006,(01)
[5]段理;林碧霞;姚然;傅竹西;.
ZnO/SiC/Si异质结构的特性
[J]材料研究学报.2006,(03)
[6]刘磁辉;姚然;苏剑锋;马泽宇;付竹西;.
硅基氧化锌薄膜中的发光和复合中心
[J]半导体学报.2007,(02)
[7]苏剑峰;姚然;钟泽;傅竹西;.
射频辅助N掺杂ZnO薄膜的生长及其光电特性
[J]发光学报.2008,(02)
[8]朱俊杰,林碧霞,孙贤开,郑海务,姚然,傅竹西.
硅基片上异质外延SiC的机理研究(英文)
[J]人工晶体学报.2004,(04)
[9]朱俊杰,林碧霞,姚然,赵国亮,傅竹西.
ZnO/SiC/Si(111)异质外延
[J]半导体学报.2004,(12)
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中国博士学位论文全文数据库
共找到3篇
[1]姚然.
透平叶片端壁及前缘冷却特性的数值研究
[D].中国科学技术大学.2021
[2]姚然.
透平叶片端壁及前缘冷却特性的数值研究
[D].中国科学技术大学.2021
[3]姚然.
MOCVD异质外延硅基ZnO和SiC薄膜及其特性研究
[D].中国科学技术大学.2007
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研究方向相近的学者
(学者,学者单位)
王长安
湖北工学院
赵伯芳
湖北工学院
周雪梅
湖北工学院
王生高
武汉化工学院
郑海务
中国科学技术大学
傅竹西
中国科学技术大学
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合作过的学者
(学者,学者单位,篇数)
付竹西
中国科学技术大学
1
马泽宇
中国科学技术大学
1
苏剑锋
中国科学技术大学
1
刘磁辉
中国科学技术大学
1
林碧霞
中国科学技术大学
2
郑海务
中国科学技术大学
1
朱俊杰
中国科学技术大学
2
孙贤开
中国科学技术大学
1
傅竹西
中国科学技术大学
2
赵国亮
中国科学技术大学
1
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引用过该学者文献的学者
(学者,学者单位,篇数)
丁志博
北京大学
1
王坤
北京大学
1
姚淑德
北京大学
1
张晓娜
北京工业大学
1
林碧霞
中国科学技术大学
1
朱俊杰
中国科学技术大学
2
傅竹西
中国科学技术大学
2
孙贤开
中国科学技术大学
1
张杨
中国科学技术大学
1
贾金锋
清华大学
1
张泽
北京工业大学
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