谈凯声
【姓名】 谈凯声
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;仪器仪表工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 紫外光源,光阴极,砷化镓表面,碳氢化合物,表面处理方法,紫外光,原子氧,GaAs,紫外光处理,去胶,低压汞灯,光电子能谱仪,光刻胶,碳氢化合物污染,臭氧,分析结果,应用范围,真空加热,清洁方法,分析仪...
【工作单位】 中国科学院电子学研究所
【曾工作单位】 中国科学院电子学研究所;
【所在地域】 北京
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[1]谈凯声,李自高,陈绍风.用于无损检测的软X射线电视显微镜[J]无损检测.1995,(04)
[2]谈凯声,李建平.用紫外光表面处理方法清除砷化镓表面的碳氢化合物[J]电子科学学刊.1986,(02)
[3]谈凯声,李建平.紫外光/臭氧表面清洁仪及其应用[J]真空科学与技术.1986,(06)
[4]谈凯声.高稳定长寿命反射式GaAs(Cs,F)光阴极[J]电子科学学刊.1987,(02)
[5]谈凯声.用于探测能量为0.1—10keV光子的夹心结构CsI光阴极[J]电子科学学刊.1987,(05)
[6]谈凯声.大电流密度光阴极的进展[J]电子科学学刊.1989,(02)
[7]谈凯声,祁宜芝.紫外光/臭氧干法去除光刻胶[J]半导体学报.1989,(03)
[8]谈凯声.紫外光/臭氧干法去除光刻胶速率的提高[J]半导体学报.1990,(04)
[9]谈凯声;.微通道板位敏探测器[J]光电子学技术.1990,(03)
[10]谈凯声.物体界面的光化学清洁方法[J]电子科学学刊.1991,(06)
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