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韩宪泽
【姓名】
韩宪泽
【职称】
【研究领域】
工业通用技术及设备;物理学;自动化技术;
【研究方向】
【发表文献关键词】
NiOx薄膜,加热氧化,光电特性,薄膜光电特性,透射率,Ni薄膜,氧量,热处理温度,氧含量,溅射,XRD谱,玻璃基片,热处理,结晶状态,中国科技大学,混晶,电阻率,电阻,氧化程度,变化温度,
【工作单位】
中国科学技术大学
【曾工作单位】
中国科学技术大学;
【所在地域】
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/文献篇数
核心期刊论文数
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共找到2篇
[1]傅竹西,林碧霞,韩宪泽,廖桂红.
含氧量对NiO_x薄膜光电特性的影响
[J]材料研究学报.1997,(02)
[2]陈慧余;曾小元;韩宪泽;.
磁性敏感器用于冲击变形测量
[J]实验力学.1990,(01)
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合作过的学者
(学者,学者单位,篇数)
廖桂红
中国科学技术大学
1
林碧霞
中国科学技术大学
1
傅竹西
中国科学技术大学
1
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