田鸿昌
【姓名】 田鸿昌
【职称】
【研究领域】 化学;物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 ZnS晶体,红外材料,化学气相沉积法,沉积速率,硫化锌,ZnS,CVD,化学气相输运,硒化锌,多晶,窗口材料,化学气相沉积,红外晶体,ZnSe,人工晶体,沉积温度,红外,CVDZnS,摩尔流量,研究院...
【工作单位】 中国非金属矿工业(集团)中非人工晶体研究院
【曾工作单位】 中国非金属矿工业(集团)中非人工晶体研究院;
【所在地域】 北京
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[1]杨曜源,李卫,张力强,蔡以超,王向阳,肖红涛,田鸿昌,东艳萍,方珍意,郝永亮.ZnS晶体的化学气相沉积生长[J]人工晶体学报.2004,(01)
[2]杨曜源,蔡以超,东艳苹,张力强,王向阳,肖红涛,田鸿昌,李卫,郝永亮,方珍意.工艺参数对CVD ZnS沉积速率的影响[J]人工晶体学报.2004,(02)
[3]杨曜源,方珍意,蔡以超,王向阳,张力强,肖红涛,田鸿昌,东艳萍,李卫,郝永亮.化学气相沉积法生长透明硒化锌多晶[J]硅酸盐学报.2004,(08)
[4]王向阳,何莉,田鸿昌,东艳萍,蔡以超.CVT法生长GaP多晶[J]人工晶体学报.2004,(05)
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