戚立昌
【姓名】 戚立昌
【职称】
【研究领域】 物理学;工业通用技术及设备;无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 芽层,金刚石薄膜,文献库,EACVD,人工晶体,非晶态碳,性能数据库,晶体材料,过渡层,建立与应用,界面状态,直流放电,金刚石膜,等离子体诊断,金刚石,生长过程,手检,等离子体电子密度,领域数据库,汽...
【工作单位】 中国非金属矿工业(集团)中非人工晶体研究院
【曾工作单位】 中国非金属矿工业(集团)中非人工晶体研究院;
【所在地域】 北京
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[1]胡晋生;卢鸿修;朱静;戚立昌;杨佩春;玄真武;浦新;侯立;.热丝增加式化学气相沉积金刚石薄膜Plane-view和Cross-section样品的观察[J]高技术通讯.1991,(01)
[2]戚立昌.我国人工晶体行业面临的机遇和挑战[J]人工晶体学报.2000,(S1)
[3]陈继锋，侯立，孙京林，刘尔凯，玄真武，戚立昌，浦新，彭汉德.燃烧火焰法沉积金刚石膜的生长特性[J]人工晶体学报.1994,(04)
[4]陶知耻,戚立昌.国外超硬材料工业现状及发展趋势[J]磨料磨具与磨削.1994,(05)
[5]陶增六,戚立昌.高导热人造多晶金刚石衰减材料的研制[J]人工晶体.1982,(Z1)
[6]戚立昌.经历了1/4世纪的人造金刚石[J]人工晶体.1982,(Z1)
[7]林文廉,张国良,王宗烈,胡本权,戚立昌.用离子注入法改进人造多晶金刚石[J]人工晶体.1983,(02)
[8]戚立昌.超硬材料的现状和将来[J]人工晶体.1983,(04)
[9]戚立昌.“住友电气”的宝石级人造金刚石[J]高压物理学报.1987,(02)
[10]侯立,陶增六,戚立昌,杨佩春,浦新.金刚石薄膜——一种新型功能材料[J]人工晶体.1988,(01)
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中国重要会议全文数据库    共找到1篇
[1]赵铁男;刘竞青;朱恪;杨沛春;戚立昌;.CVD方法生长的金刚石多晶膜内应力研究[A].中国物理学会光散射专业委员会成立十周年暨第六届学术会议论文集（上）.1991-10-01
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