段素芬
【姓名】 段素芬
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 硅外延,选择性生长,低压化学汽相淀积,成核,多晶硅薄膜,克分子数,自扩散,反应管,窗孔,降低温度,半导体工业,外延,大气压,减压系统,活化分子,均匀性,温度高,反应活化能,硅膜,子体,
【工作单位】 中国航天科技集团第七七一研究所
【曾工作单位】 中国航天科技集团第七七一研究所;
【所在地域】
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[1]丁成玉,段素芬.低压硅外延的选择性生长现象[J]半导体技术.1980,(01)
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