李大虹
【姓名】 李大虹
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 引线孔,影光,保护膜,潜影,光刻胶,腐蚀反应,凝胶,腐蚀速率,光刻机,氟酸,压焊,铝膜,自控,铝引线,铝丝,压点,光化反应,共振结构,金维新,硝基,肉桂酸,腐蚀法,环己酮,二苯乙烯,叠氮基,液相化学,...
【工作单位】 中国科学院半导体研究所
【曾工作单位】 中国科学院半导体研究所;
【所在地域】
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[1]刘济民,郭增权,李大虹.自控刻蚀保护膜引线孔的方法[J]半导体技术.1984,(06)
[2]刘济民,郭增权,李大虹.无显影光刻机理的探讨[J]电子学报.1984,(02)
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