符卫平
【姓名】 符卫平
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 无显影气相光刻,光致诱蚀,光敏聚合物,曝光区,胶膜,肉桂酸酯,光刻胶,腐蚀速度,肉桂酸,腐蚀深度,作用机理,曝光量,氢氟酸,聚合物,掩膜,涂布,紫外光,R型,含氟量,纸层,曝光时间,同时吸收,接触角,...
【工作单位】 中国科学院半导体研究所
【曾工作单位】 中国科学院半导体研究所;
【所在地域】
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[1]裴荣祥,洪啸吟,金维新,周琦,符卫平.无显影气相光刻的研究[J]科学通报.1980,(10)
[2]洪啸吟,裴荣祥,金维新,周琦,符卫平.肉桂酸酯系光敏聚合物的光致诱蚀作用机理研究[J]高分子通讯.1981,(01)
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