石万全
【姓名】 石万全
【职称】
【研究领域】 物理学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 快速退火(RTA),氮化硅薄膜,LPCVD,硅薄膜,氮化,发光光谱,快速退火,原始样品,氮化硅,峰位,氧空位,能隙,跃迁,谱峰,微量氧,电子辐射,低压化学气相淀积,表征,悬挂链,非晶,
【工作单位】 中国科学院研究生院
【曾工作单位】 中国科学院研究生院;
【所在地域】 北京
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/1 1 1 0 3 66
中国期刊全文数据库    共找到1篇
[1]刘渝珍,石万全,赵玲莉,孙宝银,叶甜春.RTA对氮化硅薄膜发光光谱的影响[J]发光学报.2003,(01)
更多