何锦涛
【姓名】 何锦涛
【职称】
【研究领域】 金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 离子束增强,铜膜,离子源,电子束蒸镀,过渡层,沉积技术,离子束,冷阴极,增强沉积,镀膜技术,氧化铝陶瓷基片,加速电压,镀膜,离子束轰击,制膜,陶瓷基片,临界载荷,热阴极,直流磁控,溅射,
【工作单位】 中国工程物理研究院电子工程研究所
【曾工作单位】 中国工程物理研究院电子工程研究所;
【所在地域】 四川绵阳
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[1]席仕伟,何锦涛.离子束增强沉积技术[J]原子能科学技术.2002,(Z1)
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