田学红
【姓名】 田学红
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;计算机软件及计算机应用;仪器仪表工业;
【研究方向】 MEMS、深度光刻计算机模拟及实验研究
【发表文献关键词】 微流量计,微装配,SU-8,接近式光刻,菲涅耳衍射,LIGA,蒙特卡罗模型,紫外光刻,X射线光刻,光刻胶,曝光剂量,MEMS,LIGA技术,接触式光刻,计算机模拟,光电子,标量衍射理论,合肥光源,深度...
【工作单位】 中国科学技术大学
【曾工作单位】 中国科学技术大学;
【所在地域】 合肥
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[1]田学红,刘刚,田扬超,张新夷,张鹏.接近式光刻的计算机模拟研究[J]微纳电子技术.2003,(Z1)
[2]田学红,刘刚,田扬超,张新夷,张鹏.接近式光刻的计算机模拟研究[J]微细加工技术.2003,(02)
[3]刘刚,田扬超,洪义麟,阚娅,张鹏,田学红,伊福廷.LIGA技术制造微流量计的研究[J]微细加工技术.2000,(04)
[4]田学红,刘刚,田扬超,张新夷.合肥光源深X-射线光刻模拟[J]中国科学技术大学学报.2002,(06)
[5]田学红,刘刚,田扬超,张新夷.SU-8的紫外深度光刻模拟[J]真空科学与技术.2002,(06)
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