刘子涛
【姓名】 刘子涛
【职称】
【研究领域】 化学;无机化工;
【研究方向】
【发表文献关键词】 化学气相淀积,陶瓷膜,氧化钛,TiO_2陶瓷,渗透率,层膜,生长速率,源物质,衬底温度,陶瓷衬底,孔表面,CVD法,多孔陶瓷,CVDI,无机分离膜,渗透量,子组,表面形貌,化学气相淀积（CVD）,孔径,
【工作单位】 中国科学技术大学
【曾工作单位】 中国科学技术大学;
【所在地域】 合肥
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[1]彭定坤,杨萍华,刘子涛,孟广耀.TiO_2陶瓷顶层膜的化学气相淀积生长研究[J]高等学校化学学报.1997,(04)
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