杨铁锋
【姓名】 杨铁锋
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 光刻胶,光刻,曝光,光刻机,涂胶,光刻技术,深度光刻,分辨率,投影式,Ｘ射线,敏度,接近式光刻,正胶,电子束,离子束光刻,掩膜版,深紫外,粒子束,光源,电子束光刻胶,
【工作单位】 中国兵器工业集团昆明物理研究所
【曾工作单位】 中国兵器工业集团昆明物理研究所;
【所在地域】 云南昆明
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[1]姜军,周芳,曾俊英,杨铁锋.光刻技术的现状和发展[J]红外技术.2002,(06)
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