金怀诚
【姓名】 金怀诚
【职称】
【研究领域】 物理学;工业通用技术及设备;化学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 多层膜,中微孔,单层膜,低角X射线衍射,性能变化,测量方法,孔径,非晶态,实验结果,检测装置,膜针孔,有效性,x射线衍射,计算值,在线检测,衍射峰,Fe靶,检测方法,电导率,电子密度,理论曲线,分压比...
【工作单位】 中国科学技术大学
【曾工作单位】 中国科学技术大学;
【所在地域】 合肥
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[1]赵敏光;金怀诚;彭敏修;.硅p-N结击穿电压的理论公式和实验证明[J]四川师院学报(自然科学版).1981,(03)
[2]许存义,吴志强,方容川,金怀诚.氯化非晶硅的制备及其红外吸收光谱[J]中国科学技术大学学报.1982,(04)
[3]吴志强,吕向东,黄文勇,刘洪图,金怀诚,王昌燧,周贵恩,吴自勤.非晶态多层膜和单层膜的低角X射线衍射研究[J]物理学报.1987,(05)
[4]孙宪明,金怀诚,徐懋.一种新颖的致密膜针孔检测方法[J]膜科学与技术.1989,(03)
[5]黄春晖,刘洪图,金怀诚,吴志强,许存义.用喇曼光谱方法研究注钕硅单晶中损伤层的温度特性[J]光谱学与光谱分析.1989,(01)
[6]顾而丹;周贵恩;金怀诚;.尖晶石型结构的X射线衍射分析和计算[J]计算机与应用化学.1989,(03)
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