胡一贯
【姓名】 胡一贯
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;物理学;仪器仪表工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 同步辐射光刻,LIGA技术,微细加工,光刻胶,波带片,LIGA,超微细加工,技术制作,X射线光刻,X射线,同步辐射,电铸,国家同步辐射实验室,牺牲层,图形,新技术,技术研究,注模,电镀,中国科技大学,...
【工作单位】 中国科学技术大学
【曾工作单位】 中国科学技术大学;
【所在地域】 合肥
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[1]江泽慧,任海青,胡一贯,刘刚,阚娅.木材断裂过程的研究[J]核技术.2000,(08)
[2]陈大鹏,刘刚,田扬超,胡一贯,阚娅,张新夷.电镀法制作活动微结构的牺牲层工艺[J]微细加工技术.2000,(02)
[3]张东平,乐德芬,胡一贯.CVD金刚石薄膜的抗腐蚀性研究[J]微细加工技术.2001,(02)
[4]张东平,乐德芬,胡一贯.同步辐射X射线光刻技术[J]应用光学.2001,(04)
[5]张东平,乐德芬,胡一贯.MPCVD金刚石的Raman光谱分析[J]光谱学与光谱分析.2002,(02)
[6]洪义麟,田扬超,刘刚,付绍军,胡一贯,霍同林,陶晓明,阚娅.LIGA技术制作Fresnel波带片的研究[J]微细加工技术.1999,(01)
[7]刘泽文,田扬超,胡一贯,阚娅.同步辐射X射线光刻初步实验结果[J]科学通报.1994,(06)
[8]田扬超,胡一贯,刘泽文,阚娅.同步辐射X射线光刻应用新领域──LIGA技术[J]原子能科学技术.1994,(04)
[9]田扬赵,洪义麟,付绍军,阚娅,陶晓明,胡一贯.深度同步辐射光刻研究[J]科学通报.1995,(01)
[10]伍历文,王兵,刘文汉,周凌云,殷士龙,田扬超,胡一贯.同步辐射辐照下Mo/Si,Pd/Si多层膜的稳定性[J]科学通报.1995,(08)
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