廖世坤
【姓名】 廖世坤
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 热壁外延,GaAs薄膜,异质外延,GaAs单晶,Si衬底,膜材,单晶薄膜,云南昆明,循环退火,昆明理工大学,光谱测试,Si表面,外延,两步生长,载流子浓度,频移,范德堡法,电子探针,缓冲层,光学支,
【工作单位】 中国兵器工业集团昆明物理研究所
【曾工作单位】 中国兵器工业集团昆明物理研究所;
【所在地域】 云南昆明
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[1]刘翔,谭红琳,吴长树,张鹏翔,赵德锐,陈庭金,廖世坤,吴刚,杨家明.Si衬底上热壁外延制备GaAs单晶薄膜材料[J]半导体光电.2000,(06)
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