H.Fritzsche
【姓名】 H.Fritzsche
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 非晶硅,电子显微术,结构研究,功函数,光隙,电荷载流子,掺杂效应,高分辨电子显微镜,a-Si,空间电荷,多层结构,半导体材料,新方法,薄层,物理,高分辨电子显微术,玻璃衬底,等离子沉积,电子衍射技术,...
【工作单位】 芝加哥大学
【曾工作单位】 芝加哥大学;
【所在地域】
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[1]温树林,冯景伟,程如光,H.Fritzsche.多层非晶硅结构研究的新方法——电子显微术[J]科学通报.1985,(20)
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