赵光兴
【姓名】 赵光兴
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;外科学;生物医学工程;
【研究方向】
【发表文献关键词】 宽离子束,微透镜阵,激光血管,溅射,考夫曼离子源,成形术,微透镜,束流密度,离子束刻蚀,壁损,靶原子,血管壁损伤,溅射速率,离子束,阵列,束流,刻蚀速率,损伤深度,离子源,刻蚀技术,靶面,溅射模型,刻...
【工作单位】 浙江大学
【曾工作单位】 浙江大学;
【所在地域】 杭州
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[1]赵光兴.激光血管成形术血管壁损伤研究[J]激光与红外.1995,(03)
[2]赵光兴,杨国光,陈洪,侯西云.宽离子束刻蚀微透镜阵列研究[J]微细加工技术.1995,(01)
[3]赵光兴,杨国光.溅射过程的理论推导[J]微细加工技术.1995,(03)
[4]赵光兴,杨国光,陈洪璆.提高考夫曼型离子源束流密度的研究[J]真空电子技术.1995,(05)
[5]赵光兴;杨国光;陈洪璆;侯西云;.微透镜列阵的离子束刻蚀及衍射效率测量[J]中国激光.1997,(01)
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