赵方毅
【姓名】 赵方毅
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;物理学;金属学及金属工艺;
【研究方向】
【发表文献关键词】 激光增强,电镀铜,沉积,无定形硅,非晶硅,激光化学,气相沉积,激光化学气相沉积,实验研究,激光,镀层沉积速率,硅薄膜,浙江大学,镍薄膜,沉积速率,喇曼,乌氏干涉仪,阴极,玻璃基片,电解液,频移,喇曼光...
【工作单位】 浙江大学
【曾工作单位】 浙江大学;
【所在地域】
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[1]袁加勇,王静环,陈琪,陆茵,赵方毅.激光增强电镀铜的实验研究[J]中国激光.1986,(09)
[2]袁加勇;王静珍;陈钰清;陈琪;陆茵;赵方毅;.激光增强电镀的研究[J]红外与激光技术.1986,(03)
[3]陈钰清;袁加勇;赵方毅;王颖;.激光化学气相沉积无定形硅[J]激光与红外.1987,(12)
[4]陈钰清,袁加勇,赵方毅.激光化学气相沉积无定形硅的研究[J]量子电子学.1988,(01)
[5]袁加勇,陈钰清,陈曾济,赵方毅,王颖.激光化学气相沉积非晶硅[J]中国激光.1990,(S1)
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