余京松
【姓名】 余京松
【职称】 研究员;
【研究领域】 无机化工;有机化工;无线电电子学;
【研究方向】 高纯硅及硅烷研究20多年
【发表文献关键词】 镀膜玻璃,硅,硅/碳化硅复合,APCVD,薄膜,电子气体,氮化硅,粒子规范,供气系统,化学气相沉积,粒子计数器,粒子过滤,硅薄膜,乙硅烷,粒子计数,乙烯含量,CVD法,恒温恒压汽化,氮化,气体分析仪,...
【工作单位】 浙江大学
【曾工作单位】 浙江大学;
【所在地域】 浙江杭州
今年新增/文献篇数 核心期刊论文数 基金论文数 第一作者篇数 总被引频次 总下载频次
0/14 2 2 5 86 1872
中国期刊全文数据库    共找到13篇
[1]余京松;沃银花;.乙硅烷的制备[J]低温与特气.2013,(01)
[2]余京松;沃银花;张金波;.对国内硅烷生产的几点看法[J]低温与特气.2009,(06)
[3]沃银花,王少楠,余京松.SiH_4、N_2二元混合气在低O_2态下的潜在危险性[J]低温与特气.2004,(01)
[4]沃银花,王少楠,余京松.SiH_4的化学性质[J]低温与特气.2005,(04)
[5]梁国仑,余京松.国外电子气体技术进展[J]半导体技术.2001,(02)
[6]余京松,田波.SiH_4,Si_2H_6的制备与分离[J]低温与特气.2001,(03)
[7]梁国仑,余京松.2000年国外工业气体市场[J]低温与特气.2001,(06)
[8]余京松,王勇,姚奎鸿.亚稳态富硅烷—氮—氧混合气制备及其着火特性[J]低温与特气.2002,(04)
[9]梁国仑,余京松.半导体厂超净供气系统[J]半导体技术.1999,(05)
[10]朱懿,余京松,韩高荣,汤兆胜,张溪文,杜丕一.乙烯含量对CVD法硅镀膜玻璃结构和性能的影响[J]建筑材料学报.1999,(02)
更多