叶必光
【姓名】 叶必光
【职称】
【研究领域】 金属学及金属工艺;无线电电子学;机械工业;
【研究方向】
【发表文献关键词】 减压,表面改性,硅烷,气体表面渗硅,硅外延,外延层,石墨基座,化学热处理,低温沉积,外延,气体渗硅,渗硅,掺杂剂,渗硅层,白亮层,气相沉积,纯铜,铜－硅化合物,冲蚀磨损,铜试样,减压工艺,自掺杂,常压...
【工作单位】 浙江大学
【曾工作单位】 浙江大学;
【所在地域】 浙江杭州
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[1]刘立,郦剑,叶必光,沈复初.铝基底上SiO_x陶瓷膜层的CVD制备及结构性能[J]浙江大学学报(工学版).2003,(01)
[2]刘立,沈复初,袁骏,叶必光,田丽,郦剑.CVD技术在制备含硅化合物膜层中的应用[J]材料科学与工程.2001,(02)
[3]甘正浩,毛志远,沈复,初郦剑,叶必光.铜的气体表面渗硅新工艺研究[J]材料科学与工程.1996,(04)
[4]沈复初，叶必光，郦剑，毛志远，甘正浩，晋圣发.铜在含硅气氛中表面改性的化学热处理研究[J]金属热处理学报.1996,(04)
[5]沈复初，叶必光，郦剑，毛志远，甘正浩，晋圣发.铜的表面改性热处理新方法初探[J]浙江大学学报(自然科学版).1996,(05)
[6]甘正浩,毛志远,沈复初,郦剑,叶必光.铜的表面含硅渗层的结构与性能[J]材料科学与工程.1997,(01)
[7]沈复初,毛志远,郦剑,叶必光,甘正浩,晋圣发.铜表面气体渗硅涂层的抗氧化性能研究[J]腐蚀科学与防护技术.1997,(03)
[8]沈复初,毛志远,郦剑,叶必光.铜在SiH_4/H_2混合气氛中获得的渗硅层的抗氧化性能[J]金属热处理.1997,(07)
[9]沈复初,毛志远,郦剑,叶必光,甘正浩,晋圣发.铜表面气体渗硅后的滑动摩擦磨损研究[J]浙江大学学报(自然科学版).1997,(03)
[10]沈复初,叶必光,陈坚,龚晨光.氢等离子体原位清洁硅衬底表面[J]半导体学报.1991,(09)
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