我的机构馆
退出
数字图书馆首页
CNKI首页
浏览器下载
帮助
王飞尧
【姓名】
王飞尧
【职称】
【研究领域】
无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】
氧沉淀,二次缺陷,重掺杂直拉硅,缺陷,重掺硅,诱生,直拉硅单晶,硅单晶,n型,重掺杂,掺杂元素,层错,单晶,掺硅,氧浓度,p型,择优腐蚀,硅原子,缺陷密度,Ramping,
【工作单位】
浙江大学
【曾工作单位】
浙江大学;
【所在地域】
杭州
学术成果产出统计表
今年新增
/文献篇数
核心期刊论文数
基金论文数
第一作者篇数
总被引频次
总下载频次
0
/
1
1
1
0
9
231
文献数(该学者统计年度当年发文总文献数)
被引频次(该学者统计年度当年发文总被引频次)
浏览趋势(该学者统计年度当年发文总浏览频次)
下载频次(该学者统计年度当年发文总下载频次)
学术成果产出明细表
中国期刊全文数据库
共找到1篇
[1]黄笑容,杨德仁,沈益军,王飞尧,马向阳,李立本,阙端麟.
重掺杂直拉硅单晶氧沉淀及其诱生二次缺陷
[J]半导体学报.2004,(06)
更多
研究方向相近的学者
(学者,学者单位)
阙端麟
浙江大学
刘斌
有研半导体股份有限公司
陈南翔
北京大学
王忠烈
北京大学
蔺锡伟
北京钢铁学院
苗伟
北京师范大学
A.Misiuk
波兰科学院
角野浩二
东北大学
关口隆史
东北大学
王阳
哈尔滨工业大学
王志军
河北工程学院
赵红生
河北工业大学
更多
合作过的学者
(学者,学者单位,篇数)
杨德仁
浙江大学
1
阙端麟
浙江大学
1
马向阳
浙江大学
1
沈益军
浙江大学
1
黄笑容
浙江大学
1
李立本
浙江大学
1
更多
该学者文献引用过的学者
(学者,学者单位,篇数)
黄笑容
浙江大学
1
李立本
浙江大学
1
刘培东
浙江大学
1
阙端麟
浙江大学
1
沈益军
浙江大学
1
更多