刘红学
【姓名】 刘红学
【职称】
【研究领域】 无线电电子学;
【研究方向】
【发表文献关键词】 硅基,位相关系,生长机理,氮化镓,外延,缓冲层,晶体学,外延层,生长温度,单晶,高温保温,反应蒸发,多晶,硅材料,界面区域,高分辨,选区电子衍射,透射电镜,层界面,国家重点实验室,
【工作单位】 浙江大学
【曾工作单位】 浙江大学;
【所在地域】 杭州
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[1]叶志镇,张昊翔,赵炳辉,王宇,刘红学.硅基GaN外延晶体学位相关系和生长机理研究[J]功能材料与器件学报.2000,(04)
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